Maska pro napařování organických polovodičových struktur

Mask for deposition of organic semiconductor structures

Funkční vzorek

Maska o celkové velikosti (30 x 30) mm slouží pro přesné nanášení organických polovodičových materiálů na křemíkový nebo skleněný substrát, který obsahuje 16 polí o velikosti cca 200 x 200 um obsahující zlaté interdigitální mikroelektrody umožňující 2 a 3 elektrodové měření elektrických vlastností deponovaného materiálu. Maska je vyrobena z mědi a pokovena 1 um vrstvou niklu, který má funkci ochranou (před oxidací) a slouží pro magnetické připevnění na vzorek.

The mask of the total size (30 x 30 mm) is used for precise application of organic semiconductor materials on a silicon or glass substrate which contains 16 fields of approximately 200 x 200 micron containing a gold interdigital microelectrodes allowing two and three electrode measurement of electrical properties of the deposited material. The mask is made of copper and plated 1 micron layer of nickel, which has the function of protection (oxidation) and is intended for mounting on a magnetic sample.

mask, organic semiconductor, vacuum evaporation, metallization

mask, organic semiconductor, vacuum evaporation, metallization

Laboratoř materiálů FCH

výsledek využívá pouze poskytovatel

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

http://labsensnano.umel.feec.vutbr.cz/products.aspx?id=41