Vysokoteplotní vakuová pec pro růst grafenových struktur

High-temperature vacuum furnace for the growth of grfen structures

Funkční vzorek

Navržené a realizované zařízení je určeno pro přípravu grafenovývh struktur v podmínkách nízkého vakua. Dále lze zařízení použít k žíhání materiálů v podmínkách vysokého vakua. Maxilální dosahovaná teplota je 1100 oC a základní tlak je 1*10-6 mbar. Užitím PC je možno ovládat průtok dvou druhů plynu v rozsahu toků (0-10 sccm a 0-100 sccm), také měnit čerpací rychlost systému, tlak a teplotu uvnitř pece. Cely systém je chlazen průtokem vody.

Designed and realized equipment is intended for preparation grafen structures at low vacuum. Furthermore, the device can be used for annealing of materials under high vacuum. Maxilální achieved temperature is 1100 C and base pressure is 1 x 10-6 mbar. By PC can be controlled a flow of gases (two types flowmetrs 0-10 sccm and 0-100 sccm), change speed of pumping system pressure and temperature inside the furnace.The furnace is cooled by water flow.

Vacuum, synthesis, CVD

Vacuum, synthesis, CVD

A2/518

výsledek využívá pouze poskytovatel

Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)