Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikačního výsledku
RAŠKOVÁ, Z., ŠORMOVÁ, H., HAVELKOVÁ, I., KRČMA, F., VANĚK, J., PŘIKRYL, R., ČECH, V.
Originální název
Spectroscopic Observation of Plasma Deposition of Thin Silane and Siloxane Based Films
Anglický název
Druh
Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus
Originální abstrakt
The spectroscopic studies have been focused on the basic characterization of the RF discharge conditions during the films deposition. In the discharge spectra many different species has been determined. To characterize the neutral gas temperature the small amount of nitrogen has been involved into the discharge. The dependencies of the temperature and the molecular excitations in the discharge have been initially studied on the total discharge power and gas composition. The correlation among the discharge parameters and the final layer properties will be subject of the following studies.
Anglický abstrakt
Klíčová slova
Low temperature plasma deposition, Optical emission spectroscopy
Klíčová slova v angličtině
Autoři
Vydáno
01.04.2003
Nakladatel
Universita Bari
Místo
Bari
Kniha
Proceedings of Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics V
Strany od
214
Strany počet
4
BibTex
@inproceedings{BUT8827, author="Zuzana {Rašková} and Hana {Šormová} and Iveta {Havelková} and František {Krčma} and Jan {Vaněk} and Radek {Přikryl} and Vladimír {Čech}", title="Spectroscopic Observation of Plasma Deposition of Thin Silane and Siloxane Based Films", booktitle="Proceedings of Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics V", year="2003", number="1", pages="4", publisher="Universita Bari", address="Bari" }