Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikačního výsledku
OTEVŘELOVÁ, D.; GRMELA, L.; TOMÁNEK, P.; BRÜSTLOVÁ, J.
Originální název
Photoluminescence scanning near-field optical microscopy in GaAlAs/GaAs quantum wells
Anglický název
Druh
Článek WoS
Originální abstrakt
Submicron spatial resolution photoluminescence is used to assess radiative efficiency and spatial uniformity of GaAlAs/GaAs heterojunctions. Room temperature photo-luminescence of multiple GaAlAs wells with GaAs barriers was measured as a function of a facet of device perpendicular to the layer structure The scanning near-field optical microscope is applied for the diagnostics of the defects in semiconductor devices for instance in a multiple quantum well grown by molecular beam epitaxy. Our high resolution studies reveal that the radiative recombination for the GaAlAs quantum well is approx. 50 times more efficient than for the underlying GaAs film. The comparison of the Far-field and Near-field characteristics of measured quantities are also given.
Anglický abstrakt
Klíčová slova
Local photoluminescence, scanning near-field optical microscopy, quantum well, superresolution
Klíčová slova v angličtině
Autoři
Vydáno
01.09.2003
Nakladatel
SPIE
Místo
Bellingham, USA
ISSN
0277-786X
Periodikum
Proceedings of SPIE
Svazek
5036
Číslo
Stát
Spojené státy americké
Strany od
640
Strany do
644
Strany počet
5
BibTex
@article{BUT41429, author="Dana {Otevřelová} and Lubomír {Grmela} and Pavel {Tománek} and Jitka {Brüstlová}", title="Photoluminescence scanning near-field optical microscopy in GaAlAs/GaAs quantum wells", journal="Proceedings of SPIE", year="2003", volume="5036", number="5036", pages="640--644", issn="0277-786X" }