Detail publikačního výsledku

Konstrukce elipsometru pro měření tenkých vrstev a povrchů.

TICHOPÁDEK, P., NEBOJSA, A., ČECHAL, J.

Originální název

Konstrukce elipsometru pro měření tenkých vrstev a povrchů.

Anglický název

Design of an Ellipsometer For Thin Films and Surface Measurement.

Druh

Článek recenzovaný mimo WoS a Scopus

Originální abstrakt

Tato práce se zabývá konstrukcí a testováním elipsometrů určených pro in situ monitorování povrchů a tenkých vrstev. Kromě dvouvlného elipsometru je zde prezentována také verze spektroskopická. Provedená měření tloušťky leptaných vrstev SiO2 demonstrují výhody spektroskopické metody.

Anglický abstrakt

This paper dals with a design and testing of ellipsometers suitable for in situ monitoring of surfaces and thin films. In addition to two-wavelength ellipsometr, a spectroscopic version of the instrument is presented as well. A good performance of the spectroscopic ellipsometer is demonstrated for monitoring thicness of SiO2 films in etching experiments.

Klíčová slova v angličtině

ellipsometry, spectroscopic ellipsometer

Autoři

TICHOPÁDEK, P., NEBOJSA, A., ČECHAL, J.

Vydáno

01.04.2001

ISSN

0447-6441

Periodikum

Jemná mechanika a optika

Svazek

46

Číslo

4

Stát

Česká republika

Strany od

136

Strany počet

4

Plný text v Digitální knihovně

http://hdl.handle.net/

BibTex

@article{BUT40053,
  author="Petr {Tichopádek} and Alois {Nebojsa} and Jan {Čechal}",
  title="Konstrukce elipsometru pro měření tenkých vrstev a povrchů.",
  journal="Jemná mechanika a optika",
  year="2001",
  volume="46",
  number="4",
  pages="4",
  issn="0447-6441"
}