Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikačního výsledku
ŠIKULA, J.; PAVELKA, J.; SEDLÁKOVÁ, V.; HLÁVKA, J.; TACANO, M.; TOITA, M.
Originální název
RTS Noise and quantum transitions in submicron MOSFETs
Anglický název
Druh
Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus
Originální abstrakt
We compare two models of charge carrier capture and emission in silicon MOSFET, which is a source of RTS noise. In the SiO2 gate insulating layer and its interface with Si channel there is a high number of oxygen vacancies, creating localised states and traps. Electron exchange between channel and traps within several nanometers distance is given by tunnelling processes and leads to generation of 1/f noise. Two possible mechanisms of electron tunnelling are discussed and theoretical results are compared to experimental dependence of capture and emission parameters as a function of gate and drain voltage (electric field intensity) and temperature.
Anglický abstrakt
Klíčová slova
RTS noise, 1/f noise, MOSFET
Klíčová slova v angličtině
Autoři
Vydáno
15.11.2007
Nakladatel
VUT
Místo
Brno
ISBN
978-80-7355-078-3
Kniha
New Trends in Physics
Strany od
138
Strany do
141
Strany počet
4
BibTex
@inproceedings{BUT27881, author="Josef {Šikula} and Jan {Pavelka} and Vlasta {Sedláková} and Jan {Hlávka} and Munecazu {Tacano} and Masato {Toita}", title="RTS Noise and quantum transitions in submicron MOSFETs", booktitle="New Trends in Physics", year="2007", pages="138--141", publisher="VUT", address="Brno", isbn="978-80-7355-078-3" }