Detail aplikovaného výsledku

Ověřená technologie přípravy antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 266 nm

KOLÍBAL, M.; MIRDAMADI, H.; ŠKODA, D.; BŘEZINA, J.

Originální název

Ověřená technologie přípravy antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 266 nm

Anglický název

Verified technology of antireflection coating fabrication optimized for 266 nm

Druh

Ověřená technologie

Abstrakt

Ověřená technologie přípravy antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 266 nm pomocí depozice dielektrických vrstev technologií depozice z pevné fáze (PVD) a depozicí atomárních vrstev (ALD). U metody PVD jde technologii napařování pomocí elektronového děla s podporou plasmového děla (Advanced Plasma Source).

Abstrakt aglicky

Verified technology of antireflection coating fabrication optimized for 266 nm utilizng deposition of dielectric layers by physical vapor deposition (PVD) and atomic layer deposition (ALD). In this particular case, PVD means electron-beam evaporation together with Advanced Plasma Source.

Klíčová slova

antireflection coatings; atomic layer deposition

Klíčová slova anglicky

antireflection coatings; atomic layer deposition

Umístění

Laboratoře CEITEC Nano, Purkyňova 123, Brno 61200 a Meopta a.s., Přerov

Licenční poplatek

Výsledek je využíván vlastníkem

www

https://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2025-ovena-technologie-pipravy-antireflexni-vrstvy-pro-vlnovou-delku-266-nm-/