Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail aplikovaného výsledku
PEKAŘ, V.; BŘEZINA, J.; ŠKODA, D.; OHLÍDAL, I.; VOHÁNKA, J.; FRANTA, D.; FRANTA, P.; DVOŘÁK, J.; OHLÍDAL, M.; ŠULC, V.; KLAPETEK, P.; HAVLÍČEK, M.
Originální název
Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45
Anglický název
High reflection coating on the glass substrate within two specifications R >= 98,5% @ 248 nm for angle of incidence 45, and R >= 98% @ 213 nm for angle of incidence 45
Druh
Funkční vzorek
Abstrakt
Realizace vysoce odrazných vrstev splňující požadavky na odrazivost ve vlnových délkách hluboké ultrafialové oblasti a to 213 nm nebo 248 nm. Vrstvy pro vlnovou délku 213 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů Al2O3 a SiO2. Vrstvy pro vlnovou délku 248 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů HfO2 a SiO2. Parametry odrazivosti dosahují hodnot R(213 nm) > 99,5 % , R(248 nm) > 98,9 %.
Abstrakt aglicky
Implementation of highly reflective layers fitting the requirements for reflectivity in the wavelengths of the deep ultraviolet region, namely 213 nm or 248 nm. The layers for the wavelength of 213 nm were prepared by magnetron sputtering technology using a combination of Al2O3 and SiO2 materials. The layers for the wavelength of 248 nm were prepared by magnetron sputtering using a combination of HfO2 and SiO2 materials. The reflectance parameters reach the values R (213 nm) > 99.5 %, R (248 nm) > 99.3 %.
Klíčová slova
DUV coating; DUV HR coating; PARMS technology; Magnetron sputtering
Klíčová slova anglicky
Umístění
Meopta – optika, s.r.o. Kabelíkova 2682/1 750 02 Přerov
Licenční poplatek
Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)