Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikačního výsledku
ČECH, V., ZEMEK, J., PEŘINA, V., VANĚK, J.
Originální název
Chemical properties of plasma-polymerized vinyltriethoxysilane
Anglický název
Druh
Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus
Originální abstrakt
Plasma-polymerized thin films of vinyltriethoxysilane were deposited on IR-transparent silicon wafers using plasma-enhanced chemical vapor deposition. Deposited films were characterized by spectroscopic techniques (RBS, ERDA, XPS, FTIR) in order to compare their elemental composition and chemical structure. We were able to influence/control the elemental composition and chemical structure of the plasma polymer films in relatively wide ranges by increasing the effective power.
Anglický abstrakt
Klíčová slova
PE CVD; thin film; organosilicon; FTIR; RBS; ERDA; XPS
Klíčová slova v angličtině
Autoři
Vydáno
01.08.2005
Nakladatel
Conference Management, Toronto
Místo
Toronto, Kanada
Kniha
Proc. 17th International Symposium on Plasma Chemistry
Strany od
1
Strany do
5
Strany počet
BibTex
@inproceedings{BUT16049, author="Vladimír {Čech} and Jan {Vaněk} and Vratislav {Peřina} and Josef {Zemek}", title="Chemical properties of plasma-polymerized vinyltriethoxysilane", booktitle="Proc. 17th International Symposium on Plasma Chemistry", year="2005", pages="1--5", publisher="Conference Management, Toronto", address="Toronto, Kanada" }