Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikačního výsledku
HOFMAN, J.; HÁZE, J.; SHARP, R.; JAKSIC, A.; VASOVIC, N.
Originální název
In-situ measurement of total ionising dose induced changes in threshold voltage and temperature coefficients of RADFETs
Anglický název
Druh
Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus
Originální abstrakt
This work presents results of a total ionising dose experiment, during which p-channel RADFETs were irradiated and measured under different gate bias conditions using an in-situ technique. The measurement system allowed threshold voltage shifts and temperature sensitivity of the shift to be measured during irradiation to 60 krad(Si) and the subsequent 55 day period of annealing.
Anglický abstrakt
Klíčová slova
RADFET, PMOS dosimeter, temperature effects, temperature coefficient, MTC, ZTC, automated test equipment, test methods
Klíčová slova v angličtině
Autoři
Rok RIV
2017
Vydáno
11.07.2016
Nakladatel
IEEE
Místo
Portland, US
ISBN
978-1-4673-2730-5
Kniha
Radiation Effects Data Workshop (REDW), 2016 IEEE
Strany od
1
Strany do
4
Strany počet
BibTex
@inproceedings{BUT127872, author="Jiří {Hofman} and Jiří {Háze} and Richard {Sharp} and Aleksandar {Jaksic} and Nikola {Vasovic}", title="In-situ measurement of total ionising dose induced changes in threshold voltage and temperature coefficients of RADFETs", booktitle="Radiation Effects Data Workshop (REDW), 2016 IEEE", year="2016", pages="1--4", publisher="IEEE", address="Portland, US", isbn="978-1-4673-2730-5" }