Detail aplikovaného výsledku

Sublimační zdroj atomů uhlíku

MACH, J.; PROCHÁZKA, P.

Originální název

Sublimační zdroj atomů uhlíku

Anglický název

Sublimation source of carbon atoms

Druh

Funkční vzorek

Abstrakt

Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých uhlíkových vrstev a dopování polovodičových materiálů (napřiklad GaN, GaAs) v podmínkách UHV. Atomy uhlíku sublimují z HOPG vlákna, které je žhaveno průchodem proudu (I = 55 A). Teplota vlákna je snímána pomocí termočlánků.

Abstrakt aglicky

Employing this device ultrathin carbon layers can be deposited and semiconductor materials doped under UHV conditions. Carbon atoms sublime from HOPG filament heated by direct current passing through (55 A) The filament temperature is measured by thermocouple.

Klíčová slova

Sublimation source; Carbon atomic source; Effusion cell; Ultrathin layers; UHV; Deposition; Dopants

Klíčová slova anglicky

Sublimation source; Carbon atomic source; Effusion cell; Ultrathin layers; UHV; Deposition; Dopants

Umístění

Lboratoř 518, ÚFI FSI VUT v Brně.

Možnosti využití

výsledek využívá pouze poskytovatel

Licenční poplatek

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

www

http://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2014-07/