Zdroj atomů Al s radiačním ohřevem

Radiatively heated Al effesion cell

Funkční vzorek

Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých Al vrstev v podmínkách UHV. Vypařovaný materiál je umístěn v PBN zásobníku. Výstupní část tohoto zásobníku je během funkce zdroje aktivně ochlazována, což je velmi vhodné pro materiály s vysokou vzlínavostí, jako je například zmíněný hliník. Ohřev zásobníku je realizován průchodem elektrického proudu tantalovým odporovým drátem.

This effusion cell is designed for deposition of ultrathin layers under UHV conditions. The material for evaporation is place in heated pBN crucible. Outer part of crucible is actively cooled to prevent Al diffusion outside the crucible.

Al; effusion cell; ultrathin layers; UHV; deposition

Al; effusion cell; ultrathin layers; UHV; deposition

ÚFI FSI VUT v Brně, laboratoř 518

výsledek využívá pouze poskytovatel

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

http://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2014-01/