Detail projektu

Pokročilé laserové procesy výroby polovodičových desek

Období řešení: 1.12.2025 — 30.6.2028

Zdroje financování

Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR - OP TAK - Aplikace – DEEP TECH – výzva III

O projektu

Projekt zaměřený na využití karbidu křemíku (SiC) v polovodičových aplikacích je v souladu s národními RIS3 strategiemi, které kladou důraz na podporu orientovaného a aplikovaného výzkumu a inovací v oblastech s vysokým potenciálem pro dlouhodobou konkurenční výhodu ČR s: (i) podporou inovací a technologického pokroku – zaměřením na pokročilé technologie, jako jsou laserové procesy s cíem snížení výrobních nákladů a spotřeby materiálů (soulad s cílem RIS3 strategie podporovat inovace a technologický pokrok), (ii) zaměření na klíčové oblasti - polovodičové aplikace, zejména v oblastech jako je elektromobilita a umělá inteligence, jsou klíčovými oblastmi s vysokým potenciálem pro ekonomický růst a konkurenceschopnost, (ii) efektivní využití zdrojů - zaměřením na efektivní využití zdrojů a snížení nákladů (souladu s cílem RIS3 strategie podporovat udržitelné a efektivní využívání zdrojů), (iv) podpora znalostní ekonomiky – VaV v oblasti SiC přispívá k rozvoji znalostní ekonomiky, s umocněním o rozvoj účelné spolupráce akademického a průmyslového VaV). Projekt přispívá k technologickému pokroku na světové úrovni a podporuje tak dlouhodobou konkurenceschopnost a udržitelnost s naplněním klíčových cílů národní RIS3 strategie.

Klíčová slova
LASER;polovodiče;karbid křemíku;analytické metody;MOSFET;wafer

Označení

CZ.01.01.01/01/24_063/0006908

Originální jazyk

čeština

Řešitelé

Útvary

Příprava a charakterizace nanostruktur
- odpovědné pracoviště (14.3.2025 - nezadáno)
Příprava a charakterizace nanostruktur
- příjemce (14.3.2025 - nezadáno)