Detail projektu

Lithography Techniques

Období řešení: 01.04.2023 — 31.12.2025

Zdroje financování

Technologická agentura ČR - 2. veřejná soutěž: Program Národní centra kompetence

- plně financující

O projektu

The motivation of this sub–project is the development of technology processes and design rules for specific optical elements in VIS/UV regions, metasurfaces and particle traps.

Klíčová slova
Lithography Techniques

Označení

TN02000020/020

Originální jazyk

angličtina

Řešitelé

Ligmajer Filip, Ing., Ph.D. - hlavní řešitel

Útvary

Příprava a charakterizace nanostruktur
- příjemce (16.03.2023 - nezadáno)