Krystalický solární článek s alternativní povrchovou pasivací

Crystalline solar cell with alternative surface passivation

Funkční vzorek

Cílem sestavení funkčního vzorku bylo vyloučení technologického procesu vysokoteplotní pasivace metodou LPCVD (850 st.C) a nahrazení tohoto kroku technologií magnetronového naprašování při nízkých teplotách (cca. 100 st.C). Jako materiál pro reaktivní depozici vybraných vrstev byl zvolen nitrid hliníku AlN. Tenké vrstvy byly deponovány na přední stranu článků. Po zhotovení solárního článku byly měřeny jeho výstupní parametry a srovnávány se standardní technologií. Bylo prokázáno, že zjištěné hodnoty zejména účinnosti a fill faktoru byly srovnatelné s technologií LPCVD. Ve srovnání se tedy ukázalo, že je možné odstranit vysokoteplotní procesy bez výrazného poklesu žádaných výstupních parametrů.

The objective function of the sample preparation was to examine changes in the technological process of high temperature passivation by LPCVD (850 st. C) and the replacement of the magnetron sputtering technology step at low temperatures (approx.100 st. C). The material selected for the reactive deposition of layers of aluminum nitridewas chosen (AlN). Thin layers were deposited on the front side cells. After making a solar cell were measured by the output parameters and compared with standardtechnology. It was shown that the values in particular efficiency and fill factor arecomparable with LPCVD technology. The comparison showed that the high-temperature processes can be removed without a significant decrease in the desiredoutput parameters.

solar cell, passivation layer, antireflection coating, magnetron sputtering, aluminum nitride

solar cell, passivation layer, antireflection coating, magnetron sputtering, aluminum nitride

Solartec s.r.o., Rožnov pod Radhoštěm

výsledek využívá pouze poskytovatel

Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)