Detail publikačního výsledku

Damage and ablation of large bandgap dielectrics induced by a 46.9 nm laser beam

RITUCCI, A. –TOMASSETTI, G. –REALE, A. –ARIZZA, L. –ZUPELLA, P. –REALE, L. –PALLADINO, L.–FLORA, F. –BONFIGLI, E. –FAENOV, A. –PIKUZ, T. –KAISER, J. –NILSEN, J. –JANKOWSKI, A.F.

Originální název

Damage and ablation of large bandgap dielectrics induced by a 46.9 nm laser beam

Anglický název

Damage and ablation of large bandgap dielectrics induced by a 46.9 nm laser beam

Druh

Článek recenzovaný mimo WoS a Scopus

Originální abstrakt

We applied a 0.3 mJ, 1.7 ns, 46.9 nm soft X-ray argon laser to ablate the surface of large bandgap dielectrics:CaF2 and LiF crystals.

Anglický abstrakt

We applied a 0.3 mJ, 1.7 ns, 46.9 nm soft X-ray argon laser to ablate the surface of large bandgap dielectrics:CaF2 and LiF crystals.

Klíčová slova v angličtině

46.9 nm soft X-ray laser, laser ablation

Autoři

RITUCCI, A. –TOMASSETTI, G. –REALE, A. –ARIZZA, L. –ZUPELLA, P. –REALE, L. –PALLADINO, L.–FLORA, F. –BONFIGLI, E. –FAENOV, A. –PIKUZ, T. –KAISER, J. –NILSEN, J. –JANKOWSKI, A.F.

Vydáno

01.01.2006

ISSN

0146-9592

Periodikum

OPTICS LETTERS

Svazek

31

Číslo

1

Stát

Spojené státy americké

Strany od

68

Strany počet

3

BibTex

@article{BUT42576,
  author="Jozef {Kaiser}",
  title="Damage and ablation of large bandgap dielectrics induced by a 46.9 nm laser beam",
  journal="OPTICS LETTERS",
  year="2006",
  volume="31",
  number="1",
  pages="3",
  issn="0146-9592"
}