Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikačního výsledku
TICHOPÁDEK, P., NEBOJSA, A., ČECHAL, J.
Originální název
Ellipsometry - a tool for surface and thin film analysis
Anglický název
Druh
Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus
Originální abstrakt
To study optical properties of solid surfaces under high temperatures we have designed an UHV apparatus consisting of an analytical chamber and a load chamber. The analytical chamber is pumped down by an ion pump to an ultimate background pressure of 10-7–10-8 Pa. Inside the chamber there is a manipulator carrying the substrate holder and oven designed for sample heating up to 1000C. The ellipsometer setup (angle of incidence is 67.5°) is fixed to two windows of the chamber. The paper deals with a basic description of theory, design and testing of a spectroscopic ellipsometer with the light halogen source in a wavelength interval of 350-750 nm and a simple fiber optical spectrometer with a diode array as a detector (Ocean Optics S 2000).
Anglický abstrakt
Klíčová slova v angličtině
Ellipsometry, spectroscopic ellipsometry
Autoři
Vydáno
19.09.2001
Nakladatel
Fakulta strojního inženýrství VUT v Brně
Místo
Brno
Kniha
Juniormat '01 sborník
Strany od
102
Strany počet
4
BibTex
@inproceedings{BUT3355, author="Petr {Tichopádek} and Alois {Nebojsa} and Jan {Čechal}", title="Ellipsometry - a tool for surface and thin film analysis", booktitle="Juniormat '01 sborník", year="2001", pages="4", publisher="Fakulta strojního inženýrství VUT v Brně", address="Brno" }