Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikačního výsledku
Ondřej Hégr, Jaroslav Boušek, Jaroslav Sobota, Radim Bařinka, Aleš Poruba
Originální název
Reactive Magnetron Sputtering for Passivation of Solar Cells
Anglický název
Druh
Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus
Originální abstrakt
We use magnetron sputtering to create of passivation films on the surface of photovoltaic solar cells. For the passivation layer created by this technology is characteristic the high deposition rate with relatively precise layer thickness control.. By reactive magnetron sputtering we deposited the materials currently used in the photovoltaic industry, the SiN (Silicon Nitrid) and SiO2, next the AlN and Al2O3. The aim of work is evaluation of both surface recombination and optical properties of this layers and their comparison with standard solar cells made by Solartec company (Czech republic.
Anglický abstrakt
Klíčová slova
magnetron sputtering, passivation layers, solar cells
Klíčová slova v angličtině
Autoři
Vydáno
01.01.2006
Nakladatel
nakl. Z. Novotný
ISBN
80-214-3246-2
Kniha
IMAPS CS International Conference 2006, Proceedings
Svazek
2006
Číslo
1
Strany od
526
Strany počet
4
BibTex
@inproceedings{BUT24907, author="Ondřej {Hégr} and Jaroslav {Boušek} and Jaroslav {Sobota} and Radim {Bařinka} and Aleš {Poruba}", title="Reactive Magnetron Sputtering for Passivation of Solar Cells", booktitle="IMAPS CS International Conference 2006, Proceedings", year="2006", volume="2006", number="1", pages="4", publisher="nakl. Z. Novotný", isbn="80-214-3246-2" }