Detail publikačního výsledku

Deposition and in situ characterization of ultra-thin films

VOBORNÝ, S., KOLÍBAL, M., MACH, J., ČECHAL, J., BÁBOR, P., PRŮŠA, S., SPOUSTA, J., ŠIKOLA, T.

Originální název

Deposition and in situ characterization of ultra-thin films

Anglický název

Deposition and in situ characterization of ultra-thin films

Druh

Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus

Originální abstrakt

Deposition of ultra-thin GaN layers and their analysis using XPS, SIMS, TOF-LEIS.

Anglický abstrakt

Deposition of ultra-thin GaN layers and their analysis using XPS, SIMS, TOF-LEIS.

Klíčová slova v angličtině

GaN, XPS, thin films

Autoři

VOBORNÝ, S., KOLÍBAL, M., MACH, J., ČECHAL, J., BÁBOR, P., PRŮŠA, S., SPOUSTA, J., ŠIKOLA, T.

Rok RIV

2011

Vydáno

23.06.2003

Nakladatel

EVC

Místo

Berlin

Kniha

EVC'03 Abstracts

Strany od

45

Strany počet

2

BibTex

@inproceedings{BUT11053,
  author="Stanislav {Voborný} and Miroslav {Kolíbal} and Jindřich {Mach} and Jan {Čechal} and Petr {Bábor} and Stanislav {Průša} and Jiří {Spousta} and Tomáš {Šikola}",
  title="Deposition and in situ characterization of ultra-thin films",
  booktitle="EVC'03 Abstracts",
  year="2003",
  pages="2",
  publisher="EVC",
  address="Berlin"
}