Detail publikačního výsledku

Electron beam lithography of graphene Hall-bar for micro-contacting

HRABOVSKÝ, M.

Originální název

Electron beam lithography of graphene Hall-bar for micro-contacting

Anglický název

Electron beam lithography of graphene Hall-bar for micro-contacting

Druh

Konferenční sborník (ne stať)

Originální abstrakt

Overview of the preperation and shaping of graphene into Hall-bar like structures for nanosensoric applications.

Anglický abstrakt

Overview of the preperation and shaping of graphene into Hall-bar like structures for nanosensoric applications.

Klíčová slova

Grapehen, Hall-bar, EBL, plasma etching, HSQ, PMMA

Klíčová slova v angličtině

Grapehen, Hall-bar, EBL, plasma etching, HSQ, PMMA

Autoři

HRABOVSKÝ, M.

Rok RIV

2016

Vydáno

23.04.2015

Nakladatel

MUNI PRESS

Místo

Brno

ISBN

978-80-210-7825-3

Kniha

Ceitec PHD Retreat

Edice

1.

Strany od

95

Strany do

95

Strany počet

1

BibTex

@proceedings{BUT115736,
  editor="Miloš {Hrabovský}",
  title="Electron beam lithography of graphene Hall-bar for micro-contacting",
  year="2015",
  series="1.",
  number="1",
  pages="95--95",
  publisher="MUNI PRESS",
  address="Brno",
  isbn="978-80-210-7825-3"
}