Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
bakalářská práce
Autor práce: Ing. Marek Šikula
Ak. rok: 2012/2013
Vedoucí: doc. Ing. Jindřich Mach, Ph.D.
Oponent: doc. Ing. Petr Bábor, Ph.D.
Pomocí atomárních zdrojů kyslíku se vyrábí a studují ultratenké oxidové vrstvy, především tzv. high-k vrstvy. Ty jsou základem CMOS tranzistorů a DRAM kondenzátorů. Tato práce zpracovává teorii atomárních svazků kyslíku a způsoby jejich získání. Na základě těchto podkladů je vytvořen konstrukční návrh unikátního typu disociačního atomárního zdroje kyslíku. Návrh byl testován jednoduchými experimenty. Dale je vypracován 3D model zdroje a kompletní výkresová dokumentace.
Termální disociace, termální zdroj, iontová vodivost, atomární kyslík, termální svazky atomů kyslíku, ZrO2 keramiky
Termín obhajoby
19.06.2013
Výsledek obhajoby
obhájeno (práce byla úspěšně obhájena)
Klasifikace
A
Jazyk práce
čeština
Fakulta
Fakulta strojního inženýrství
Ústav
Ústav fyzikálního inženýrství
Studijní program
Aplikované vědy v inženýrství (B3A-P)
Studijní obor
Fyzikální inženýrství a nanotechnologie (B-FIN)
Složení komise
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
Posudek vedoucíhodoc. Ing. Jindřich Mach, Ph.D.
Známka navržená vedoucím: A
Posudek oponentadoc. Ing. Petr Bábor, Ph.D.
Známka navržená oponentem: A
Odpovědnost: Mgr. et Mgr. Hana Odstrčilová