Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail aplikovaného výsledku
HRDÝ, R.; HUBÁLEK, J.
Originální název
Mikromanipulátor pro fotolitografii
Anglický název
Micromanipulator for photolithography
Druh
Funkční vzorek
Abstrakt
Zařízení pro přené sesouhlasení substrátu s fotomaskou pro fotolitografii. Obsahuje manipulátory s přesnotí 0,5 um. Zařízení je navrženo pro 4 palcové křemíkové desky a pro jejich fixaci je v zařízení umístěna přesně vyleptaná lamela.
Abstrakt anglicky
Equipment for precise particulars matching substrate fotomaskou for photolithography. It includes manipulators with přesnotí 0.5 um. The device is designed for 4-inch silicon wafer and the fixation device is placed precisely etched plate.
Klíčová slova
Mikroposuv. fotolitografie, kremíkový substrát
Klíčová slova anglicky
Micromanipulating. photolithography, silicon substrate
Umístění
Laboratoř 0.66 UMEL, VUT, Technická 10, Brno
Možnosti využití
výsledek využívá pouze poskytovatel
Licenční poplatek
Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)
www
http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=16