Detail aplikovaného výsledku

Mikromanipulátor pro fotolitografii

HRDÝ, R.; HUBÁLEK, J.

Originální název

Mikromanipulátor pro fotolitografii

Anglický název

Micromanipulator for photolithography

Druh

Funkční vzorek

Abstrakt

Zařízení pro přené sesouhlasení substrátu s fotomaskou pro fotolitografii. Obsahuje manipulátory s přesnotí 0,5 um. Zařízení je navrženo pro 4 palcové křemíkové desky a pro jejich fixaci je v zařízení umístěna přesně vyleptaná lamela.

Abstrakt anglicky

Equipment for precise particulars matching substrate fotomaskou for photolithography. It includes manipulators with přesnotí 0.5 um. The device is designed for 4-inch silicon wafer and the fixation device is placed precisely etched plate.

Klíčová slova

Mikroposuv. fotolitografie, kremíkový substrát

Klíčová slova anglicky

Micromanipulating. photolithography, silicon substrate

Umístění

Laboratoř 0.66 UMEL, VUT, Technická 10, Brno

Možnosti využití

výsledek využívá pouze poskytovatel

Licenční poplatek

Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

www