Detail publikačního výsledku

Deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films

VOBORNÝ, S.; KOLÍBAL, M.; MACH, J.; ČECHAL, J.; BÁBOR, P.; PRŮŠA, S.; SPOUSTA, J.; ŠIKOLA, T.

Originální název

Deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films

Anglický název

Deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films

Druh

Článek recenzovaný mimo WoS a Scopus

Originální abstrakt

Paper deals with the deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films

Anglický abstrakt

Paper deals with the deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films

Klíčová slova

Ion beam, deposition, XPS

Klíčová slova v angličtině

Ion beam, deposition, XPS

Autoři

VOBORNÝ, S.; KOLÍBAL, M.; MACH, J.; ČECHAL, J.; BÁBOR, P.; PRŮŠA, S.; SPOUSTA, J.; ŠIKOLA, T.

Rok RIV

2011

Vydáno

01.01.2004

ISSN

0040-6090

Periodikum

Thin Solid Films

Svazek

459

Číslo

1-2

Stát

Nizozemsko

Strany od

17

Strany počet

5

BibTex

@article{BUT42360,
  author="Stanislav {Voborný} and Miroslav {Kolíbal} and Jindřich {Mach} and Jan {Čechal} and Petr {Bábor} and Stanislav {Průša} and Jiří {Spousta} and Tomáš {Šikola}",
  title="Deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films",
  journal="Thin Solid Films",
  year="2004",
  volume="459",
  number="1-2",
  pages="5",
  issn="0040-6090"
}