Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikačního výsledku
Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F.
Originální název
Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films
Anglický název
Druh
Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus
Originální abstrakt
Práce podává přehled identifika hlavních spektrálních čar a pásů měřených během depozice s užitím HMDSO a TVS. Depoziční proces probíhal v pulsním režimu s proměnnou délkou pulsu. Kromě čistých monoměrů byla užívána i příměs kyslíku. Byly pozorovány změny v závoslosti na délce pulsu a složení reakční směsi. Složení plynu vystupujícího z plazmatu bylo sledováno pomocí GC-MS pro níž byly odebírány vzorky metou cold trap. Podařilo se zjistit dosud neznámou sloučeninu a byly navrženy možné reakční mechanismy vedoucí k jejímu vzniku.
Anglický abstrakt
Klíčová slova
optical emission spectroscopy, CG-MS, tetravinylsilane deposition, effective power
Klíčová slova v angličtině
Autoři
Vydáno
15.11.2004
Nakladatel
Matfyzpress
Místo
Praha
ISBN
80-86732-32-0
Kniha
Proceedings of Week of Doctoral Students
Strany od
367
Strany počet
6
BibTex
@inproceedings{BUT17256, author="Zuzana {Rašková} and Kamil {Brandejs} and Olga {Cvrčková} and František {Krčma}", title="Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films", booktitle="Proceedings of Week of Doctoral Students", year="2004", pages="6", publisher="Matfyzpress", address="Praha", isbn="80-86732-32-0" }