Iontový zdroj typu Colutron

Colutron type ion source

Funkční vzorek

Iontový zdroj je zařízení pro tvorbu fokusovaného iontového svazku používaného při analýzách, čištění nebo depozicích tenkých vrstev. Navržený zdroj je založen na komerční výbojové komoře firmy Colutron Research Corporation (nyní Beam Imaging Solutions), ke které byly navrženy a realizovány podpůrné systémy (nosný, chladící, elektrický, extrakční a fokusační).

Ion source is a device for formation of focused ion beam for various applications in analysis, cleaning or deposition of thin films. Ion source is based on commercial discharge chamber of the Colutron company (now Beam Imaging Solutions), supplemented by carrying, cooling, electrical, extraction and focusing systems.

Iontový zdroj; iontový svazek; výbojová komora; depozice tenkých vrstev; čištění tenkých vrstev; analýza tenkých vrstev.

Ion Source; Ion beam; discharge chamber; thin film deposition; thin film cleaning; thin film analysis.

A2/518

výsledek využívá pouze poskytovatel

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

http://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2013-08/