Student se během bakalářské práce aktivně podílel na přípravě nitridových nanostruktur hliníku a galia. V první fázi byla otestována nová efuzní cela pro depozici Al, která umožnila kontrolovaný růst Al nanostruktur. Nad rámec zadání byl studován vliv substrátu na oxidaci Al nanostruktur. Dále byly nalezeny optimální podmínky pro růst AlN nanokrystalů. Navíc byl tento proces otestován i směrem k tvorbě tenkých vrstev AlN. Na závěr byl studován růst slitiny Al a Ga, s výhledem na budoucí přípravu AlGaN. Výsledky této práce budou využity k přípravě publikace v odborném časopise. Práce studenta byla samostatná, proaktivní a přesahovala rámec zadání. Lze tedy konstatovat, že student splnil všechny úkoly zadání.

Práce Lukáše Dokulila se zabývá růstem nanostruktur na bázi Al/Ga/N, které jsou zajímavé pro vysokovýkonnostní elektroniku a optoelektroniku v UV a hluboké UV oblasti. Výhodou je, že v těchto nanostrukturách lze poměrem Al/Ga ladit šířku zakázaného pásu v rozsahu 3,4 eV (365 nm) odpovídající čistému GaN až do 6,2 eV (200 nm) pro čisté AlN.

Cíle bakalářské práce, tedy růst struktur a jejich charakterizace technikami SEM a XPS, byly splněny. Původně zamýšlená analýza pomocí AFM byla nahrazena TEM a EDX, což považuji za vhodné, neboť tyto techniky poskytují zajímavější informace z hlediska složení nanostruktur. Především v případě AlGa byla prokázána tvorba core/shell struktur. Nanostruktury byly připraveny na 4 typech substrátů: nativním SiO2, termálním SiO2, Si3N4 membranách a grafenu pomocí MBE a nitridace probíhala pomocí iontového zdroje. V této souvislosti považuji za velmi zajímavé zjištění, že grafen zabraňuje oxidaci Al vlivem substrátu, což je výsledek mající publikační potenciál. Dále byl studován vliv teploty substrátu, který umožňoval řídit velikost nanostruktur nebo dokonce dosáhnout tvorby celistvé vrstvy AlN (nad 500 C).

Oceňuji, že práce je psaná jasně a srozumitelně. Občas jsem narážel na drobné překlepy, jejichž seznam uvádím v komentáři tohoto posudku. V práci bylo provedeno velké množství kvalitních experimentů a charakterizací. Trochu obtížné pro mne při četbě bylo poznat hlavní dějovou linii, nebo hlavní cíl, případně jednu vizi, ke které vše směřuje, a která by mi pomohla snadněji propojit smysl všech dílčích experimentů. Nicméně možná právě díky určité otevřenosti práce a nesměřování k jednomu konkrétnímu cíli, se podařilo, asi jako vedlejší efekt, objevit možnost blokování oxidace Al pomocí grafenu, což je zároveň z mého pohledu nejvýznamnější výsledek.

Celkově však práci hodnotím jako výbornou A. Topics for thesis defence:

1. Proč Al nanostruktury s teplotou rostou až do 300 C, ale při 500 C nastává pokles průměrné velikosti (Tabulka 3.2, Obrázek 3.9).
2. Ve vztahu 2.6, je člen účinného průřezu, který je dále vyjádřen pomocí průměru atomu. Můžete objasnit vztah pro účinný průřez, jak k tomuto vztahu lze dojít?
3. Můžete podrobněji vysvětlit vztah 2.1. Především člen Ph, tedy jak píšete „hydrostatický tlak působící na evaporant“?