Cíle diplomového projektu pana Bc. Daniela Hrocha navazují na jeho předchozí spolupráci s týmem vědců na partnerské univerzitě v Portugalsku v rámci programu Erasmus. Diplomový projekt je po teoretické stránce zpracován na dobré úrovni a rovněž z formálního hlediska je v pořádku. Student byl ze začátku aktivní a docházel na konzultace. V průběhu zpracování projektu však došlo k velkému časovému posunu a práce byla dodělávána ve značném spěchu. Nedostatek času se projevuje především ve zpracování druhé poloviny práce, kdy pan Hroch neměl možnost optimalizovat proces depozice koloidních nanočástic CdS do aluminové nanoporézní šablony, což se odrazilo na kvalitě dosažených výsledků.
I přes uvedené nedostatky diplomová práce splňuje všechny body zadání a doporučuji ji tedy k obhajobě.

Předložená práce se zabývá přípravou vertikálně uspořádaného pole kadmium sulfidových nanostruktur pro aplikace v solárních článcích (SČ). Autor se zaměřil v rešeršní části na základní popis solárního článku, využití CdS v SČ, depozici CdS do nanoporézních šablon z aluminy (PAA) a charakterizaci SČ. V druhé části se autor věnuje experimentální práci, výsledkům a diskuzi.
Po obsahové stránce bych autorovi vytkl, že se hlouběji nevěnuje pásové teorii a efektu kvant. uvěznění a jejich propojení.
V práci bych vytkl některé obsahové chyby: autor používá zkratku AAO chybně na označení porézní formy (PAA); na str.17 je špatný odkaz na rovnici (3); str.19 velikost pórů v pm; str.21 dolní hranice anod. napětí určuje vznik PAA, jinak se formuje kompaktní oxid; str.23 jsou nepřehledně uvedeny metody, které nepoužívají šablony; str.24 nesprávné tvrzení, že N2 byl použit jako palivo; časté zaměňování Al a Al2O3 např. str.24,25; str.25 metoda nevyužívá anodizace; str.30 zaměněné popisky obr; chybí koncentrace elektrolytů; str.35 HCl za H3PO4; str.36 SE je z ang. Secondary Electron, zle určena pórovitost (BSE detektor).
Z formálního hlediska: není použito dělení slov; na konci řádků se objevují neslabičné předložky; okraje při oboustranném tisku, hl. strany napravo (abstrakt, obsah), úvod se nečísluje; v ang.verzi abstraktu je chybný název univerzity; nevhodné výrazy např.:„použitelná energie“, „po nanočasticiach ani stopy“, a různé zdrobněliny; nejednotné/nesprávné psaní/formátovaní popisků obrázků, rovnic, jednotek a veličin, chem. názvů; chybné či chybějící odkazy (např. str.27,29); uvádění tzv. CAS chemikálií a SN přístrojů; malé množství schémat; nevhodné strukturování kapitol (4 úrovně); nedostatek přehledových či knižních citací, uvádění ImageJ a jeho funkcí.

Celkově bych první část hodnotil jako dobrou a obsáhlou práci splňující zadání diplomové práce. Avšak dojem ruší poměrně frekventované formální, tak i zřídka obsahové nedostatky.
V druhé části se autor věnuje experimentální části (body zadání 2–5). Bohužel se v této části velmi negativně projevuje nedostatek experimentálních dat. Autor uvádí pár pokusů o výrobu PAA bez adekvátních výsledků. Dále autor uvádí dva experimenty depozice CdS QD pomocí filtrace do komerčních membrán, přičemž u obou se nepodařilo dokázat vznik CdS struktur.
Zde jako hlavní a zásadní nedostatek je chybějící parametry koloidním roztoku CdS nanočástic (velikost, koncentrace), na kterých zcela závislý postup depozice a příslušné analytické metody. Také je nutno poukázat na nereprezentativní množství dat a tedy nelze zhodnotit, zdali postup a výsledky byli nebo nebyli správní.
Ze závěru bych za správnou cestu považoval optimalizaci velikosti pórů a nanočástic, avšak použit postup z lit.[12], která se zabývá TiO2 nebo úprava Al nemá opodstatnění.
Vzhledem k prezentováním výsledkům a výše uvedeným výhradám nelze hodnotit praktickou část za dostatečnou. Topics for thesis defence:

1. V rešeršní části často uvádíte TiO2 právě v kombinaci s kvantovými tečkami a aplikací v solárních článcích. Je možné nahradit TiO2 (brán jako polovodič, se zakázaným pásem 3,2 eV) právě Al2O3 (chápan jako izolant, se zakázaným pásem 6,4 eV)?
2. Proč se v práci zaměřujete na použití kyseliny fosforečné pro výrobu porézní vrstvy AAO?
3. V závěru uvádíte, že je důležitá úprava hliníkového plechu. Proč je rovinnost povrchu porézní šablony pro depozici pomocí filtrace (případně elektrochemické depozice) důležitá?
4. V práci uvádíte, že velikost zakázaného pásu je závislá na velikosti kvantových teček skrze efekt kvantového uvěznění. Popište podrobněji souvislost mezi velikostí zakázaného pásu (optickou absorpcí) a velikostí částice.