Student se ve své práci zabývá problematikou tolerančních polí elektrostatické čočky. Cílem práce bylo ověření hypotézy nezávislostí jednotlivých tolerančních polí, a tedy jejich lineárního skládání. Práce je velmi dobře logicky uspořádaná. Začíná teoretickým úvodem do problematiky elektromagnetických polí v elekronové optice a geometrických tolerancí mechanických konstrukcí, následuje přehled metodiky, popis zkoumané sestavy, uvažované tolerance, simulační nástroje a použitý model skládání tolerančních polí, a práci uzavírá část s výsledky, kde je uvažovaný model lineárního skládání bázových polí porovnán s plnou simulací pro různě rozcentrované situace.

Z výsledků práce je patrné, že největším nedostatkem uvažovaného přístupu je nedostatečný popis změny rotačně symetrické složky pole a0. Na tuto skutečnost student v práci poukazuje, nicméně vyřešení této nesrovnalosti bylo již mimo rozsah této práce.

Drobným nedostatkem práce je chybějící srovnání trajektorií částic v plně simulovaném perturbovaném systému vůči trajektoriím v aproximativním predikovaném elektrostatickém poli. Nicméně, provést toto srovnání by nebylo technicky jednoduché a student se tak v práci omezil pouze na porovnávání průběhu jednotlivých multipólových složek pole.

Přes tyto výhrady se jedná o kvalitně zpracovanou bakalářskou práci, kterou doporučuji k obhajobě a hodnotím výborně – A.

Předložená bakalářská práce se zabývá rozborem tolerančních (parazitních) polí elektrostatických čoček používaných v částicové a elektronové optice a vývojem rychlého aproximativního modelu pro predikci vlivu výrobních a montážních nepřesností na tvorbu pole. Téma je z hlediska praxe vysoce relevantní – reálné čočky elektronových mikroskopů nikdy nelze sestavit s absolutní přesností a vzniklá parazitní pole (zejména dipólová při vyosení a náklonu a kvadrupólová při elipticitě elektrod) přímo ovlivňují trajektorie částic i kvalitu zobrazení. Schopnost tyto vady rychle odhadnout bez nutnosti časově náročných úplných 3D simulací má bezprostřední uplatnění při návrhu a optimalizaci elektronově-optických soustav.
Za nejsilnější část práce považuji, že se student seznámil s obecným 3D výpočtem elektrostatického pole metodou okrajových prvků (BEM) v prostředí General Particle Tracer, tento přístup aplikoval na řadu konfigurací vad a získané výsledky vesměs korektně analyzoval a interpretoval. Oceňuji rovněž pečlivou práci s literaturou a grafickou úroveň práce.
Práce má však i řadu nedostatků. Logické členění textu není zvoleno vhodně a místy naznačuje, že se student v problematice elektronové optiky dosud plně neorientuje. Kapitola věnovaná aberacím (3. řádu) je v daném kontextu spíše nadbytečná a předchází výkladu paraxiální aproximace, který navíc není proveden vhodně (např. odvození v polárních souřadnicích, jimž se v elektronové optice obvykle vyhýbáme); přínosnější by byl rozbor vad seřízení, byť ten může přesahovat rámec bakalářské práce. V rovnicích nejsou důsledně zavedeny a definovány některé symboly a popis multipólového rozvoje obsahuje syntaktické chyby, které výrazně ztěžují porozumění. Objevují se i terminologické nepřesnosti.
Závažnější je výhrada k vlastnímu algoritmu: vztah (3.8) je pravděpodobně chybný a jeho zápis je nepřehledný. Vztah (3.9) platí pro lineární aproximaci, v daném případě však jde o dipólové a kvadrupólové pole; jeho aplikace na změny osově symetrického pole je principiálně nesprávná, neboť se jedná o efekt druhého řádu. Na základě principu superpozice elektrostatických polí lze přitom separovat pouze příspěvky jednotlivých elektrod, nikoli vliv jednotlivých parametrů vad obecně.
Přes uvedené výhrady práce splňuje zadané cíle a prokazuje schopnost samostatné odborné práce. Práci doporučuji k obhajobě a hodnotím stupněm C. Topics for thesis defence:

1. Proveďte korektní zavedení multipólového rozvoje a sjednoťte použitou symboliku (zejména význam a argumenty funkcí phi_ν (x,y,z) a koeficientů a_ν(z)). Jak by měl správně znít zápis rozvoje a definice použitých veličin?
2. Rozeberte vztah (3.8): které parametry lze na základě principu superpozice elektrostatických polí separovat (např. potenciály na jednotlivých elektrodách V_k) a za jakých podmínek je možné oddělit vliv jednotlivých parametrů vad seřízení (vyosení, náklon, elipticita)? Kdy tento předpoklad selhává v důsledku efektů druhého řádu?