Studium ultratenkých vrstevnatých struktur

A Study of Ultrathin Layered Structures

conference paper

Czech

Článek se zabývá využitím metody AR XPS pro analýzu chemického složení vrstvy přírodního oxidu na substrátech Si. Teorie maximální entropie byla použita při následné rekonstrukci hloubkového profilu vzorku.

This paper deals with AR XPS method and their application for chemical analysis of natural Silicon dioxide layers on silicon substrates. For reconstruction of concentration depth profiles a maximum entrophy theory was used.

XPS, multilayers

JURKOVIČ, P., ŠIKOLA, T., BÁBOR, P., ČECHAL, J.

2002

15. 11. 2001

FEI VUT v Brně

Brno

80-214-1992-X

Sborník příspěvků konference Nové trendy ve fyzice

364

368

5