Publication result detail

Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace

POTOČEK, M.; BÁBOR, P.; ŠIKOLA, T.

Original Title

Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace

English Title

Application of thermal desorption spectroscopy for surface contamination investigation

Type

Peer-reviewed article not indexed in WoS or Scopus

Original Abstract

V článku je popsán teoretický základ termální desorpční spektroskopie a její realizace v laboratoři povrchů a tenkých vrstev. Dále je uvedeno použití této metody při studiu kontaminace Si desek.

English abstract

Theoretical basics of thermal desorption spectroscopy and its realization in the Surfaces and Thin Films Laboratory is presented. As an example of application of this method a study of contamination of Si wafer is reported.

Keywords

Termální desorpční spektroskopie, TDS; desorpce; adsorpce

Key words in English

Thermal desorption spectroscopy, TDS; desorption; adsorption

Authors

POTOČEK, M.; BÁBOR, P.; ŠIKOLA, T.

RIV year

2010

Released

01.09.2009

ISBN

0447-6441

Periodical

Jemná mechanika a optika

Volume

54

Number

7-8

State

Czech Republic

Pages from

217

Pages to

218

Pages count

2

BibTex

@article{BUT46796,
  author="Michal {Potoček} and Petr {Bábor} and Tomáš {Šikola}",
  title="Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace",
  journal="Jemná mechanika a optika",
  year="2009",
  volume="54",
  number="7-8",
  pages="217--218",
  issn="0447-6441"
}