Publication result detail

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.

Original Title

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

English Title

A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films

Type

Paper in proceedings (conference paper)

Original Abstract

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

English abstract

An optimalization of plasmatic ion source for direct deposition of thin films and layers.

Key words in English

Ion source

Authors

VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.

Released

05.12.2000

Publisher

Vutium

Location

Brno

Book

II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI

Pages from

353

Pages count

4

BibTex

@inproceedings{BUT4508,
  author="Stanislav {Voborný} and Jakub {Zlámal}",
  title="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev",
  booktitle="II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI",
  year="2000",
  pages="4",
  publisher="Vutium",
  address="Brno"
}