Publication result detail

Konstrukce elipsometru pro měření tenkých vrstev a povrchů.

TICHOPÁDEK, P., NEBOJSA, A., ČECHAL, J.

Original Title

Konstrukce elipsometru pro měření tenkých vrstev a povrchů.

English Title

Design of an Ellipsometer For Thin Films and Surface Measurement.

Type

Peer-reviewed article not indexed in WoS or Scopus

Original Abstract

Tato práce se zabývá konstrukcí a testováním elipsometrů určených pro in situ monitorování povrchů a tenkých vrstev. Kromě dvouvlného elipsometru je zde prezentována také verze spektroskopická. Provedená měření tloušťky leptaných vrstev SiO2 demonstrují výhody spektroskopické metody.

English abstract

This paper dals with a design and testing of ellipsometers suitable for in situ monitoring of surfaces and thin films. In addition to two-wavelength ellipsometr, a spectroscopic version of the instrument is presented as well. A good performance of the spectroscopic ellipsometer is demonstrated for monitoring thicness of SiO2 films in etching experiments.

Key words in English

ellipsometry, spectroscopic ellipsometer

Authors

TICHOPÁDEK, P., NEBOJSA, A., ČECHAL, J.

Released

01.04.2001

ISBN

0447-6441

Periodical

Jemná mechanika a optika

Volume

46

Number

4

State

Czech Republic

Pages from

136

Pages count

4

BibTex

@article{BUT40053,
  author="Petr {Tichopádek} and Alois {Nebojsa} and Jan {Čechal}",
  title="Konstrukce elipsometru pro měření tenkých vrstev a povrchů.",
  journal="Jemná mechanika a optika",
  year="2001",
  volume="46",
  number="4",
  pages="4",
  issn="0447-6441"
}