Vakuová LPCVD komora pro lokální depozici přímo na čipu s možností „in situ“ monitorování růstu vrstev pod optickým mikroskopem

Vacuum LPCVD chamber for direct local deposition on chip with the possibility of “in situ” growth monitoring using optical microscope

Functioning sample

Jedná se o duralovou komoru pro LPCVD depozice materiálů na lokálně vyhřívaných membránách realizovaných na křemíkovém čipu. Ve víku komory je zasklený otvor umožňující „in situ“ pozorování růstu vrstvy pod optickým mikroskopem. Čip se do komory vkládá na korundové keramice (případně LTCC), na kterou je zasazen v zapájené patici nebo je na ni přímo nabondován.

An aluminum alloy chamber for LPCVD deposition on a locally heated membranes on a silicon chip. Glass window for "in situ" observation of the growth under the optical microscope is situated in the lid of the chamber. The chip is placed in a socked or directly wire-bonded on an alumina ceramic or LTCC which is then inserted in the chamber.

LPCVD, deposition, chip, chamber

LPCVD, deposition, chip, chamber

LabSensNano T10-N0.66

In order to use the result by another entity, it is always necessary to acquire a license

http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=110