Project detail

Diagnostika plazmatu obsahujícího uhlovodíky

Duration: 01.01.2003 — 31.12.2003

Funding resources

Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR - Fond rozvoje vysokých škol (FRVŠ)

- part funder (2003-03-18 - not assigned)

On the project

Projekt se zaměřuje na studium problematiku diagnostiky plazmatu obsahujícího vyší koncentrace jednoduchých uhlovodíků, přičemž nosnými plyny budou argon a směsi argonu s dusíkem. Hlavní diagnostickou metodou bude optická emisní spektroskopie, jako další metody budou využity EPR spektroskopie, plynová chromatografie a další metody analytické chemie. Pomocí těchto metod bude stanoveno složení plazmatu aktivního mikrovlnného výboje, teploty neutrálního plynu a vibrační rozdělení zářivých stavů dvouatomových molekul ve výboji. Cílem projektu je poznání procesů probíhajících v plazmatu s ohledem na aplikaci při depozicích tenkých vrstev na bázi uhlíku (karbidy, karbonitridy). Kromě modelových pokusů na pracovišti řešitelky budou prováděna i měření na poloprovozním zařízení instalovaném ve firmě HVM Plasma. Experimentální výsledky budou prezentovány na mezinárodní konferenci International Symposium on Plasma Chemistry, která proběhne v létě 2003 na Sicílii a jíž se řešitelka bude aktivně účastnit. Výsledky získané během řešení projektu se rovněž stanou základem jedné až dvou nových úloh pro Praktikum z chemie a fyziky nízkoteplotního plazmatu, které je využíváno i studenty přírodovědecké fakulty MU.

Description in English
Project cover the diagnostics of plasma containing higher concentrations of the simple hydrocarbons. Argon and its mixtures with nitrogen will be used as buffer gases. The optical emission spectroscopy will be the main diagnostic method, the EPR, gas chromatography and the other analytical methods will be applied, too. The plasma composition, neutral gas temperature and the vibrational distributions of radiative state will be calculated. The processes in these discharges will be studied under this project with respect on the potential application in the thin films plasma deposition. The results will be presented on the International Symposium on Plasma Chemistry in Taormina (2003) and they will be included into the doctoral Thesis of the applicant. They will be also a basis for the preparation of a new practical task at our faculty.

Keywords
plazmochemická depozice, diagnostika plazmatu, organosilikony

Key words in English
Plasma chemical deposition, plasma diagnostics, organosilicones

Mark

IS2003/895

Default language

Czech

People responsible

Krčma František, prof. RNDr., Ph.D. - fellow researcher
Rašková Zuzana, Ing. - principal person responsible

Units

Faculty of Chemistry
- (2003-01-01 - not assigned)

Results

RAŠKOVÁ, Z., ŠORMOVÁ, H., HAVELKOVÁ, I., KRČMA, F., VANĚK, J., PŘIKRYL, R., ČECH, V. Spectroscopic Observation of Plasma Deposition of Thin Silane and Siloxane Based Films. In Proceedings of Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics V. Bari: Universita Bari, 2003. p. 214 ( p.)
Detail

RAŠKOVÁ, Z., ŠORMOVÁ, H., HAVELKOVÁ, I., KRČMA, F., VANĚK, J., PŘIKRYL, R., ČECH, V. Spectroscopic Observation of Low Pressure Plasma Deposition of Thin Silane and Siloxane Based Films. In Proceedings of ISPC XVI. Taormina: IUPAC, 2003. p. 1 ( p.)
Detail

Rašková, Z., Brandejs, K., Krčma, F., Vaněk, J. Plasma Diagnostic During Deposition Processes of Silane Based Thin Films. Czechoslovak Journal of Physics, 2004, vol. 54, no. C, p. 1036 ( p.)ISSN: 0011-4626.
Detail

Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F. Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films. In Proceedings of Week of Doctoral Students. Praha: Matfyzpress, 2004. p. 367 ( p.)ISBN: 80-86732-32-0.
Detail

RAŠKOVÁ, Z., ŠORMOVÁ, H., HAVELKOVÁ, I., KRČMA, F., VANĚK, J., PŘIKRYL, R., ČECH, V. Spectroscopic Monitoring of Plasma Deposition of Silane and Siloxane Based Thin Films. Acta Physica Slovaca, 2003, vol. 53, no. 5, p. 401 ( p.)ISSN: 0323-0465.
Detail

RAŠKOVÁ, Z., ŠORMOVÁ, H., HAVELKOVÁ, I., KRČMA, F., VANĚK, J., PŘIKRYL, R., ČECH, V. Spectroscopic monitoring of low pressure plasma deposition of Silane and Siloxane based thin films. In Proceedings of the 12th Annual Conference of Doctoral Students - WDS 2003. Praha: MATFYZPRESS, 2003. p. 441 ( p.)ISBN: 80-86732-18-5.
Detail

Responsibility: Rašková Zuzana, Ing.