Přístupnostní navigace
E-application
Search Search Close
Applied result detail
VAVŘÍK, I.; HOLUB, M.; BLECHA, P.; BRADÁČ, F.; KARPÍŠEK, Z.
Original Title
Vývoj metodiky a etalonů na zkoušení přesnosti souřadnicových měřicích strojů s optickým snímacím systémem a optických souřadnicových měřicích strojů. Projekt číslo 4.2 PT 01/013
English Title
Development of methodology and etalons for acuracy testing of CMM with optic scanning head and optic CMM Project number 4.2 PT 01/013
Type
Verified technology
Abstract
Zajištění a prokázání metrologické návaznosti CMM s optickými snímacími systémy a optických CMM prostřednictvím vývoje vhodného systému zkoušení přesnosti složeného z hmotných etalonů rozměru (zkušební tělesa), metodiky pro vyhodnocování zkoušek přesnosti a stochastického modelování.
Abstract in English
Determining and proving metrologic links between CMM and optical scanning systems and optical CMM by developing a suitable precision testing system consisting of dimension mass standards (testing bodies), methodology of precision testing evaluation, and stochastic modelling.
Keywords
CMM, optical scanning, etalon, philosophy, stochastic modeling
Key words in English
Location
ÚVSSR ZL - SERVIS, s.r.o.
Possibilities of use
only the provider uses the result
Licence fee
In order to use the result by another entity, it is always necessary to acquire a license