Detail publikačního výsledku

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.

Originální název

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Anglický název

A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films

Druh

Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus

Originální abstrakt

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Anglický abstrakt

An optimalization of plasmatic ion source for direct deposition of thin films and layers.

Klíčová slova v angličtině

Ion source

Autoři

VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.

Vydáno

05.12.2000

Nakladatel

Vutium

Místo

Brno

Kniha

II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI

Strany od

353

Strany počet

4

BibTex

@inproceedings{BUT4508,
  author="Stanislav {Voborný} and Jakub {Zlámal}",
  title="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev",
  booktitle="II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI",
  year="2000",
  pages="4",
  publisher="Vutium",
  address="Brno"
}