Štěpán Kovařík velmi významně posunul práci v oblasti selektivní hydrogenace grafenu na ÚFI VUT, která se jeví jako slibná a jednoduchá možnost přípravy nanoelektronických struktur na grafenu litografickými metodami. Úspěšně selektivně hydrogenoval grafen pomocí atomárního zdroje vodíku a elektronovou litografií připravené PMMA masky, přičemž byl schopen hydrogenaci prokázat pomocí Kelvinovy silové mikroskopie, vodivostní atomární silové mikroskopie a Ramanovy spektroskopie. Jako vedoucí práce oceňuji především systematický přístup k hledání řešení, přesnou logicky konzistentní analýzu problematiky a orientaci na prokazatelné skutečnosti. Vynikající je rovněž schopnost studenta jít do hloubky problematiky, klást si základní fyzikální otázky a nacházet odpovědi. Bakalářská práce je napsána velmi pěkně a celkově je vynikajícím odrazovým můstkem pro další pokračování v této oblasti.

Bakalářská práce Š. Kovaříka je věnována studiu grafenu a modifikaci jeho vlastností adsorpcí atomů vodíku. Jedná se o moderní a aktuálně studované téma, protože grafen je jedním z kandidátů na další rozvoj polovodičového průmyslu, který již dnes naráží na fyzikální limity využití křemíku.

Práce je rozdělena do šesti kapitol, včetně úvodu a závěru. V druhé a třetí kapitole se autor věnuje popisu experimentálních metod - Kelvinovy silové mikroskopie a Ramanovy spektroskopie. Stručný a přehledný popis metod, doplněný odkazy na relevantní literaturu, je adekvátní experimentálnímu zaměření práce. Čtvrtá část práce popisuje základní strukturu grafenu a změny šířky jeho zakázaného pásu energií vzniklé vlivem adsorbovaných vodíkových atomů. Jelikož je však jedním z bodů zadání literární rešerše uvedené problematiky, očekával bych podrobnější seznámení s dosavadním výzkumem v této oblasti a dříve publikovanými experimenty jiných autorů. Následující experimentální část představuje dosažené výsledky měření a je z ní patrné, že i přes omezený prostor pro prezentaci výsledků se autor podrobně seznámil s měřicími technikami a využil jejich potenciálu.

Po grafické a stylistické stránce je práce na velmi vysoké úrovni, i když se v ní vyskytuje několik drobných nedostatků. Když už autor využívá pro sazbu profesionálních nástrojů, měl by si ujasnit rozdíl v použití pomlčky a spojovníku (např. v definici všech zkratek, číselných rozsahů a pod.), a dále pak sazbu znaku % (8% - osmiprocentní vs. 4 % - čtyři procenta, např. str. 17). Pozor také na sazbu desetinné čárky a nechtěné mezery mezi ní a následující číslicí.

Přes popsané nesnáze s kontaminací vzorků při jejich pokrytí maskou a následné elektronové litografii autor získal množství užitečných výsledků, které přehlednou formou předkládá čtenáři. Text práce je výstižný a srozumitelný a po formální stránce splňuje nároky kladené na bakalářskou práci.

Autor splnil všechny body zadání.
Uvedenou bakalářskou práci doporučuji k obhajobě a navrhuji celkové hodnocení A.

Zdeněk Nováček Otázky k obhajobě:

1. V experimentální části zmiňujete nestejnorodost kontaktních potenciálů v důsledku kontaminace vzorku vrstvou PMMA, použitou při elektronové litografii. Zároveň ale uvádíte, že krycí vrstva PMMA se využívá již při transferu grafenu z měděného substrátu na oxid křemičitý. Měla by tedy změna masky vůbec na tuto kontaminaci vliv? Existuje jiná metoda přenosu grafenu mezi substráty?