Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
diplomová práce
Autor práce: Ing. Michal Páleníček, Ph.D.
Ak. rok: 2011/2012
Vedoucí: Ing. Michal Urbánek, Ph.D.
Oponent: Ing. Petr Tichopádek, Ph.D.
Tato diplomová práce se zabývá studiem a vyhodnocováním krystalografických defektů na povrchu křemíkových desek vyrobených Czochralského metodou. Zaměřuje se především na růstové defekty a kyslíkové precipitáty, které hrají významnou roli při vzniku vhodných nukleačních center pro růst vrstevných chyb. Růst vrstevných chyb v blízkosti povrchu křemíkových desek je podpořen jejich oxidací a selektivním leptáním. Takto výrazněné vrstevné chyby se označují jako OISF z anglického Oxidation Induced Stacking Fault. Prostorové rozložení OISF na desce dává zpětnou vazbu k procesu tažení monokrystalu křemíku a kvalitě povrchu desek. Dále je v této práci popis zařízení pro automatickou detekci a analýzu OISF, které bylo vyvinuto pro firmu ON Semiconductor v Rožnově pod Radhoštěm.
krystalografické defekty, křemík, defekty v křemíku, monokrystalický křemík, polovodičový křemík, Czochralského metoda, vrstevné chyby, precipitace kyslíku, oxidové precipitáty, OISF
Termín obhajoby
18.06.2012
Výsledek obhajoby
obhájeno (práce byla úspěšně obhájena)
Klasifikace
A
Jazyk práce
čeština
Fakulta
Fakulta strojního inženýrství
Ústav
Ústav fyzikálního inženýrství
Studijní program
Aplikované vědy v inženýrství (M2A-P)
Studijní obor
Fyzikální inženýrství a nanotechnologie (M-FIN)
Složení komise
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
Posudek vedoucíhoIng. Michal Urbánek, Ph.D.
Známka navržená vedoucím: A
Posudek oponentaIng. Petr Tichopádek, Ph.D.
Známka navržená oponentem: A
Odpovědnost: Mgr. et Mgr. Hana Odstrčilová