Zdena Druckmullerová pracovala na tématu vypsaném společně se společností FEI Czech Republic. Experimentální část práce tak byla omezena dostupností používaného mikroskopu v potřebné konfiguraci. Studentka však na zvoleném tématu začala pracovat svědomitě již po návratu se stáže Erasmus, a zejména díky tomuto přístupu se jí podařilo splnit cíle diplomové práce a v několika ohledech je i přesáhnout. Experimenty se štípáním vzorků a následným plasmatickým čištěním byly metodicky a zejména časově poměrně náročné. Při zpracování výsledků studentka prokázala zřejmě vrozené schopnosti pro zpracování obrazu a celou metodiku obohatila o několik originálních přístupů (vyzdvihl bych zejména výpočet hodnoty kontrastu z logaritmické závislosti na míře dopování). Interpretace naměřených dat a vyvozené závěry respektují fakt, že některé experimenty nebylo možné z časových důvodů opakovat. Zde lze studentce vytknout občas nedostatečnou trpělivost a rozvahu při analýze výsledků.
Předložený text je velmi dobře napsán, i přes mé drobné výhrady k uspořádání a obsahu teoretické části. Je nutné vyzdvihnout rešerši současných metod vyhodnocování úrovně dopantů pomocí elektronového mikroskopu, která je zpracována výborně, komplexně a poskytuje tak čtenáři úplný náhled na současný stav poznání v této oblasti. Text prošel minimem korekcí a myslím, že dokazuje velmi dobrou schopnost studentky prezentovat dosažené výsledky.

Predložená práca je po formálnej i obsahovej stránke na nadštandardnej úrovni. Výsledky práce sú priamo aplikovateľné v praxi.. Otázky k obhajobě:

1. V práci mi chýba porovnanie navrhnutých technológií čistenia implantovaných povrchov používané v mikroelektronickej praxi pred nanášaním ďalších vrstiev (napr. kontaktov). Formálnym nedostatkom práce je používanie výrazu „plazmatické čistenie“, ktorý nie vždy presne vystihuje použitú metódu.Možno by bolo dobré, keby diplomantka pri obhajobe uviedla podstatu procesov pri plazmochemickom leptaní, reaktívnom iónovom leptaní, fyzikálnom iónovom, napr. čistení povrchu v argónových iónoch. A zároveň uviedla používané energie častíc. Odporúčam pre prípadnú ďalšiu prácu diplomantky v odbore detailnejšie sa oboznámiť s fyzikálnymi a chemickými mechanizmami rôznych plazmatických techník. Z hľadiska minima radiačného poškodenia sa mi zdá perspektívne plazmochemické leptanie v zhášanej plazme. Chcem vyzdvihnúť jednoznačne správnu orientáciu diplomantky na analýzu na lomových plochách, čo jej
2. umožnilo dosiahnuť vierohodné výsledky a tiež spoznať „záludnosť“ kontaminačných javov pri pozorovaní vzorky. Nájsť vhodnú metódu očistenia povrchu implantovaného sustrátu je pomerne zložitý problém, ktorý sa pravdepodobne sa dá riešiť pre kažý jednotlivý materiál substrátu i implantu. Diplomantka svojou prácou prispela k rozvoju metód pozorovania implantovaných oblastí v LV SEM. V Bratislave dne 2.6.2012 Ing. Ivo Vávra, CSc. Oponent diplomové práce